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卓立漢光半導(dǎo)體晶圓PL光譜測(cè)試系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)： 半導(dǎo)體晶圓 品 牌： 卓立漢光 價(jià)格電議,您可以向供應(yīng)商詢價(jià)得到該產(chǎn)品價(jià)格 所 在 地： 北京通州區(qū) 更新日期： 2024-07-04 詳細(xì)信息面向半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)的光譜測(cè)試系統(tǒng)
熒光測(cè)試
熒光光譜的峰值波長(zhǎng)、光譜半寬、積分光強(qiáng)、峰強(qiáng)度、熒光壽命與電子/空穴多種形式的輻射復(fù)合相關(guān)，雜質(zhì)或缺陷濃度、組分等密切相關(guān)
膜厚&反射率&翹曲度
通過(guò)白光干涉技術(shù)測(cè)量外延片的薄膜厚度（Thickness）、反射率(PR)以及晶片翹曲度
熒光光譜
系統(tǒng)特點(diǎn)
面向半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)的光譜測(cè)試系統(tǒng)
光路結(jié)構(gòu)示意圖
自動(dòng)掃描臺(tái)：兼容2寸、4寸、8寸晶圓
可升級(jí)紫外測(cè)量模塊、翹曲度測(cè)量模塊
側(cè)面收集模組：用于AlGaN樣品（發(fā)光波段200-380 nm），因?yàn)锳lGaN輕重空穴帶反轉(zhuǎn)使其熒光發(fā)光角度為側(cè)面出光，因此需要特殊設(shè)計(jì)的側(cè)面收光模塊。
翹曲度測(cè)量模塊
翹曲度測(cè)量模塊集成在顯微鏡模組中，利用晶圓表面反射回的375nm激光，利用離焦量補(bǔ)償實(shí)現(xiàn)表面高度的測(cè)量，對(duì)晶圓片的高度掃描后獲得晶圓形貌，從而計(jì)算翹曲度的數(shù)值。
該模塊不僅可以測(cè)量晶圓的形貌和翹曲度，同時(shí)還可以起到激光自動(dòng)對(duì)焦的作用，使得晶圓片大范圍移動(dòng)時(shí)，用于激發(fā)熒光的激光光斑在晶圓表面始終保持*佳的聚焦?fàn)顟B(tài)，從而提供熒光收集的效率和分辨率。
紫外測(cè)量模塊物鏡
5x
NA=0.2820x
NA=0.40100x
NA=0.8離焦量z分辨率
< 1 μm
< 0.5 μm
< 0.06 μm
激光光斑尺寸（焦點(diǎn)處）
~2 μm
~2 μm
~1 μm
測(cè)量時(shí)間（刷新頻率）
< 20 ms(50 Hz），可調(diào)節(jié)*高100 Hz
紫外測(cè)量模塊的功能主要由集成在顯微鏡模組中的5x紫外物鏡和側(cè)面收集模塊實(shí)現(xiàn)�？蛇x擇213nm或266nm的激光進(jìn)行激發(fā)，聚焦光斑約10微米，可選擇通過(guò)該物鏡收集正面發(fā)射的熒光，通過(guò)單色儀入口1進(jìn)行收集和測(cè)量。
針對(duì)AlGaN的發(fā)光波段（200-380nm），尤其是Al組分較大（70%）的AlGaN由于輕重空穴帶反轉(zhuǎn)，其熒光發(fā)光角度為側(cè)面出光，因此設(shè)置側(cè)面收集模組，將側(cè)面發(fā)出的熒光通過(guò)一個(gè)單獨(dú)傾斜60度角的物鏡收集后，通過(guò)光纖傳入單色儀入口2進(jìn)行收集和測(cè)量。
可通過(guò)翹曲度模塊對(duì)晶圓片形貌進(jìn)行測(cè)量后，再進(jìn)行紫外熒光測(cè)量時(shí)，根據(jù)記錄的形貌高度，Z軸移動(dòng)實(shí)現(xiàn)晶圓片高度方向的離焦量補(bǔ)償，使得晶圓片大范圍移動(dòng)時(shí)，激光光斑在晶圓表面始終保持*佳的聚焦?fàn)顟B(tài)，從而提供熒光收集的效率和分辨率。
軟件界面
晶圓Mapping軟件界面
數(shù)據(jù)分析軟件界面
應(yīng)用案例
6英寸AlGaN晶圓測(cè)試
隨著AlGaN中Al所占比例的增加，可看到發(fā)光峰位出現(xiàn)了藍(lán)移，當(dāng)Al的含量占到70%的時(shí)候，峰位已經(jīng)藍(lán)移至238nm。對(duì)AlGaN晶圓進(jìn)行Al組分比例面掃描，可以看到晶圓中Al的組分分布情況。
MicroLED微區(qū)PL熒光光譜Mapping
MicroLED微盤，直徑40微米。圖（A）：熒光PL Mapping圖像，成像區(qū)域45×45微米；圖（B）：圖（A）所示紅線，m0-m11點(diǎn)，典型熒光光譜。
MicroLED微盤的熒光強(qiáng)度3D成像
2英寸綠光InGaN晶圓熒光光譜測(cè)試
從InGaN的峰強(qiáng)分布來(lái)看，在晶圓上峰強(qiáng)分布非常不均勻，*強(qiáng)發(fā)光大約位于P2點(diǎn)附近，而有些位置幾乎不發(fā)光。發(fā)光峰位在500-530nm之間，分布也很不均勻。波長(zhǎng)在510nm（P2位置）發(fā)光*強(qiáng)。波長(zhǎng)越靠近530nm（P1位置），發(fā)光越弱。
2英寸綠光InGaN晶圓熒光壽命測(cè)試
從以上熒光壽命成像得到，綠光InGaN熒光壽命在4ns-12ns之間。沿著P1-P3白線，熒光壽命減小。
從晶圓上分布看，熒光壽命與熒光強(qiáng)度成像的趨勢(shì)大致相符，而且峰位有明顯關(guān)聯(lián)。即沿著峰位藍(lán)移方向（藍(lán)移至500nm），熒光發(fā)光強(qiáng)度增強(qiáng)而且壽命增加，說(shuō)明輻射復(fù)合占據(jù)主要比例。而沿著峰位紅移的方向（藍(lán)移至530nm），發(fā)光強(qiáng)度減弱，同時(shí)壽命減小，說(shuō)明非輻射復(fù)合占據(jù)主要比例。
面向半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)的光譜測(cè)試系統(tǒng)
性能參數(shù)：熒光激發(fā)和收集模塊
激光波長(zhǎng)
213/266/375 nm
激光功率
213nm激光器，峰值功率＞2.5kw@1KHZ，266nm激光器，輸出功率2-12mw可調(diào)
自動(dòng)對(duì)焦
• 在全掃描范圍自動(dòng)聚焦和實(shí)時(shí)表面跟蹤
• 對(duì)焦精度<0.2微米顯微鏡
•用于樣品定位和成像
•近紫外物鏡，100X/20X，用于375nm激光器,波長(zhǎng)范圍355-700 nm
•紫外物鏡, 5X,用于213 nm/266nm的紫外激發(fā), 200-700 nm樣品移動(dòng)和掃描平臺(tái)
平移臺(tái)
•掃描范圍大于300x300mm。
•*小分辨率1微米。樣品臺(tái)
•8寸吸氣臺(tái)（12寸可定制）
•可兼容2、4、6、8寸晶圓片光譜儀
探測(cè)器光譜儀
•320 mm焦長(zhǎng)單色儀，可接面陣探測(cè)器。
•光譜分辨率：優(yōu)于0.2nm@1200g/mm可升級(jí)模塊
翹曲度測(cè)量模塊
重復(fù)測(cè)量外延片統(tǒng)計(jì)結(jié)果的翹曲度偏差<±5um
紫外測(cè)量模塊
5X紫外物鏡，波長(zhǎng)范圍200-700 nm。應(yīng)用于213 nm、266nm的紫外激發(fā)和側(cè)面收集實(shí)現(xiàn)AlGaN紫外熒光的測(cè)量
膜厚測(cè)試模塊
重復(fù)測(cè)量外延片Mapping統(tǒng)計(jì)結(jié)果的膜厚偏差<±0.1um
熒光壽命測(cè)試模塊
熒光壽命測(cè)試精度8 ps，測(cè)試范圍50 ps-1 ms
軟件
控制軟件
可選擇區(qū)域或指定點(diǎn)位自動(dòng)進(jìn)行逐點(diǎn)光譜采集
Mapping數(shù)據(jù)分析軟件
•可對(duì)光譜峰位、峰高、半高寬等進(jìn)行擬合。
•可計(jì)算熒光壽命、薄膜厚度、翹曲度等。
•將擬合結(jié)果以二維圖像方式顯示。
面向半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)的光譜測(cè)試系統(tǒng)- 儀器訂購(gòu)
- 樣品委托測(cè)試
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產(chǎn)品搜索
留 言
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