什么是光譜儀？光與物質(zhì)相互作用引起物質(zhì)內(nèi)部原子及分子能級(jí)間的電子躍遷，使物質(zhì)對(duì)光的吸收、發(fā)射、散射等在波長及強(qiáng)度信息上發(fā)生變化，而檢測并處理這類變化的儀器被稱為光譜儀。因此，光譜儀的基本功能，就是將復(fù)色光在空間上按照不同的波長分離/延展開來，配合各種光電儀器附件得到波長成分及各波長成分的強(qiáng)度等原始信息以供后續(xù)處理分析使用。
        光譜分析方法作為一種重要的分析手段，在科研、生產(chǎn)、質(zhì)控等方面，都發(fā)揮著*的作用。而無論是穿透吸收光譜，還是熒光光譜，拉曼光譜等，如何獲得單波長輻射（單色光）是不可缺少的手段�，F(xiàn)代單色儀具有很寬的光譜范圍（UV- IR），高光譜分辨率（到0.001nm）,自動(dòng)波長掃描，完整的電腦控制功能，極易與其他周邊設(shè)備組合為高性能自動(dòng)測試系統(tǒng)，使用電腦自動(dòng)掃描多光柵單色儀已成為光譜研究的首選。
當(dāng)一束復(fù)合光線進(jìn)入單色儀的入射狹縫，首先由光學(xué)準(zhǔn)直鏡匯聚成平行光，再通過衍射光柵色散為分開的波長（顏色）。利用每個(gè)波長離開光柵的角度不同，由聚焦反射鏡再成像到出射狹縫。通過電腦控制可精確地改變出射波長。
                                                                                                            
                                            
關(guān)于光柵
        光柵作為重要的分光器件，它的性能直接影響整個(gè)系統(tǒng)性能。
光柵分為刻劃光柵、復(fù)制光柵、全息光柵等�？虅澒鈻攀怯勉@石刻刀在涂有薄金屬表面機(jī)械刻劃而成；復(fù)制光柵是用母光柵復(fù)制而成。典型刻劃光柵和復(fù)制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽�？虅澒鈻啪哂醒苌湫�率高的特點(diǎn)，全息光柵光譜范圍廣，雜散光低，且可作到高光譜分辨率。

光柵方程
        反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細(xì)的刻槽，一系列平行刻槽的間隔與波長相當(dāng)，光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產(chǎn)生衍射和干涉。對(duì)某波長，在大多數(shù)方向消失，只在一定的有限方向出現(xiàn)，這些方向確定了衍射級(jí)次。如圖所示，光柵刻槽垂直輻射入射平面，輻射與光柵法線入射角為α，衍射角為β，衍射級(jí)次為m，d為刻槽間距，在下述條件下得到干涉的*值：mλ=d（sinα+sinβ）。

如何選擇光柵
 選擇光柵主要考慮如下因素：
        1、光柵刻線，光柵刻線多少直接關(guān)系到光譜分辯率，刻線多光譜分辨率高，刻線少光譜覆蓋范圍寬，兩者要根據(jù)實(shí)驗(yàn)靈活選擇；
    2、閃耀波長，閃耀波長為光柵*大衍射效率點(diǎn)，因此選擇光柵時(shí)應(yīng)盡量選擇閃耀波長在實(shí)驗(yàn)需要波長附近。如實(shí)驗(yàn)為可見光范圍，可選擇閃耀波長為500nm；
    3、使用范圍，光柵使用的下限通�？烧J(rèn)為是光柵閃耀波長的一半，上限可認(rèn)為是光柵閃耀波長的二倍，實(shí)際可參考光柵效率曲線圖；
    4、光柵效率，光柵效率是衍射到給定級(jí)次的單色光與入射單色光的比值。光柵效率愈高，信號(hào)損失愈小。為提高此效率，除提高光柵制作工藝外，通常還采用特殊鍍膜，提高反射效率。